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再造一个MicroLED产业基地！晶能光电外延总监眼中的MicroLED未来
现在全球的LED产业链资源都聚集在中国，国内的厂商完全有能力再造一个MicroLED产业基地。——晶能光电（江西）有限公司外延总监涂逵时间已来到2022年，晶能光电成立16年了。十余年的光阴里，晶能光电走过了一段艰苦卓绝的技术产业化历程，秉持着坚守的信念、本分的精神，用过硬的品质，从移动照明到手机闪光灯，再到汽车照明，锻造了一个又一个细分领域的“单打冠军”。来到LED微缩化时代，晶能光电又将硅衬底GaN基材料技术应用于Micro LED，进度喜人：2020年适用于户外高分辨率显示屏的硅衬底垂直M
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20位重量级嘉宾带你一起预判Micro LED显示的下一个五年
权威聚焦中国（国际）Micro LED显示高峰论坛国际Micro LED技术产业、应用及发展顺应国际Micro LED显示产业发展趋势，围绕“量产关键技术及产业链创新”主题展开的2021第五届中国（国际）Micro LED显示高峰论坛，定于2021年12月19日-21日在重庆融创万达酒店召开。（由于疫情影响，时间有所调整，请各位观众以最新通知为准）五年沉淀见证Micro LED从技术突破到规模量产自从Micro LED技术走进人们的视野就被寄予厚望，被认为是下一代显示技术的风口，然而在发展之初，
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采用直接外延方法实现单片芯片集成一个HEMT和高调制带宽的单个MicroLED
摘要:可见光通信(VLC)需要具有高调制带宽的三氮化体可见微光发光二极管(MicroLED)。这样的MicroLED需要驱动在一个kA/cm2尺度上的高注入电流密度，大约是2个数量级 比正常的可见LED操作要高。MicroLED通常采用干法蚀刻技术制备，而干法蚀刻导致的损伤是不可避免的性能的大幅下降和生存能力的巨大挑战，在高注射电流密度。此外，传统的偏置(这是简单地应用在p−n结)是足够好的正常LED操作，但产生了一个巨大的挑战，单MicroLED，需要在高注入电流密度
