首页 MiniLED正文

天虹科技Mini/MicroLED用ALD设备获晶电采用

MicroLED.cn MiniLED 2021-08-09 14:20:51 14116 0 | 文章出自:台湾工商时报 MiniLED

天虹科技突破高阶半导体设备自制瓶颈,成功开发出原子层沉积ALD(Atomic Deposition Layer)设备,成为台湾地区第一家“量产”ALD薄膜制程的设备厂商,并获得晶电的验证及采用,成为晶电推动LED科技商业化应用的重要伙伴。

image.png

天虹科技成立于2002年,是台湾地区关键半导体零组件主要供应商,在2017年投入研发自主技术的半导体主制程关键设备,目前已开发并成功销售半导体PVD、ALD、Powder ALD、Bonder、Debonder、Laser Lift-off及Skiwar等设备。
天虹科技执行长林俊成表示,公司在台湾地区“经济部”的支持下,开发出一套完整的Mini/Micro LED所使用的ALD薄膜制程方案。其中提供给晶电生产的设备,具有特殊的反应腔体及可调控的先驱物供应设计,制造出的ALD薄膜具有绝佳的镀膜均匀性与重复性、极佳抵抗突穿电流的效能、高穿透率及低先驱物使用量等性质。
对于更先进的Micro LED设备开发,林俊成表示,Micro LED屏幕,其由更小的红色、蓝色和绿色光之微小像素组成,而制造这些像素的一些制程步骤,容易导致其精细纳米级结构的损坏,进而会导致光强度的损失。
目前,天虹科技已开发出在一种pre-passivation的修补技术,可以有效修复Micro LED在制程中结构被损坏的一些缺点,恢复照明强度甚至将其提高到更高亮度,并有不少LED厂商密切合作中。
版权声明

本文仅代表文章出处方观点,不代表本站立场。
本站原创文章转载请说明出处。

本文链接:https://microled.cn/MiniLED/757.html

发表评论

评论列表(0人评论 , 14116人围观)
☹还没有评论,来说两句吧...

MicroLED网 - 新一代显示技术MiniLED/MicroLED门户网站

https://microled.cn/

| 鄂ICP备2021014930号-3

Powered By MicroLED.cn

微信公众号:MicroLED资讯

关注获取更多热点