近日,中微公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™CW。
图片来源:中微公司
据介绍,Preforma Uniflex™ CW可灵活配置多达五个双反应台反应腔(十个反应台),每个反应腔可以同时加工两片晶圆,在保证较低的生产成本和化学品消耗的同时,实现更高的生产效率。
Preforma Uniflex™ CW配备了完全拥有自主知识产权的优化混气方案及加热台, 具有薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性,对于弯曲度较大的晶圆,它也具备良好的工艺处理能力。
此外,该设备还具有优异的阶梯覆盖率和填充能力,可以满足先进逻辑器件、DRAM和3D NAND中接触孔以及金属钨线的填充应用需求。
据悉,中微公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售,业务涉及半导体集成电路制造、先进封装、LED外延片生产、功率器件、MEMS制造以及其他微观工艺的高端设备领域。
Mini/Micro LED方面,中微公司主打产品MOCVD设备在新一代MiniLED产业化中,在蓝绿光LED生产线上取得了绝对领先地位;用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备目前已交付国内外客户进行生产验证,并取得重复订单。
2022年3月,中微公司收到兆驰股份52腔Prismo Unimax™MOCVD设备采购订单;同年10月,中微公司宣布全球第500台MOCVD设备付运国内LED外延片和芯片研发生产制造商,该设备同样是Prismo UniMax™。
中微公司表示,此次推出LPCVD新产品,在等离子体刻蚀设备和MOCVD设备的基础上,进一步拓展了公司的产品线布局,也增强了半导体设备的自主可控性。未来公司也将坚持三维发展战略,推出更多自主设计的半导体设备。
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