4 月 5 日，原子层沉积（ALD）薄膜涂层技术供应商Picosun在官网发文称，在台湾地区阳明交大开展的Micro LED研究中，Picosun 原子层沉积 (ALD) 技术在增强Micro LED 的电光特性方面发挥了至关重要的作用，助力Micro LED外量子效率进一步提升与实现全彩化显示。
图片来源：Picosun官网
Picosun表示，使用介电薄膜作为钝化材料是抑制悬空键以及提高 LED 输出功率和外量子效率（EQE）的常用技术。阳明交大在研究中比较不同尺寸III 族氮化物Micro LED，在采用和没有采用原子层沉积氧化铝钝化技术时的外量子效率。结果表明，经原子层沉积氧化铝钝化处理之后，5 µm × 5 µm的 Micro LED 外量子效率提高了70%，而 10 µm ×10 µm 的Micro LED外量子效率提高了60%。
此外，为了实现Micro LED全彩化显示，阳明交大团队开发了一种自动图案化量子点的喷墨打印技术。该方案可以显着提高彩色像素的精度，满足高分辨率要求，并通过Picosun的 ALD钝化技术成功防止量子点的光氧化降解。经过 500 小时的环境可靠性测试后，显示色域仍保持在较高水平。
阳明交大教授郭浩中表示，"Micro LED 一直是应用于下一代显示产品的的颠覆性技术。在越来越多的应用领域中，Micro LED展现了其长寿命、高功效和高亮度等优点。通过量子点技术，Micro LED 可应用于VR/MR等领域，因为在这些应用领域，使用单色蓝光Micro LED芯片就能够满足需求，有利于降低产品制造成本。而我们的研究证明，原子层沉积钝化技术在即将到来的纳米级器件中发挥着关键作用。"
Picosun 集团产业业务领域副总裁 Juhana Kostamo 表示："Picosun 的原子层沉积技术已在许多知名 LED 制造商中得到生产验证。原子层沉积薄膜拥有卓越的保形性和均匀性，以及在极低薄膜厚度下也能确保可靠、无针孔封装能力的关键优势。此外，原子层沉积工艺可以在中等温度下运作。"
值得注意的是，2021年6月，阳明交大郭浩中教授团队使用Picosun ALD设备沉积出钝化层和阻隔膜，使UVC LED的使用寿命延长、可靠性增强，并改善LED昂贵的封装程序，降低生产成本。
而Picosun与阳明交大保持着长期合作关系，并在2021年开展了第二期的合作计划，持续在光电、半导体及生物医学领域联合开发ALD最新的技术应用。
