武汉光谷实验室研发量子点光刻胶，有望应用于MicroLED全彩显示

更新时间：2024-08-14 19:38:09 作者：MicroLED网来源：湖北光谷实验室

MicroLED显示技术因有着高分辨率、高亮度、高对比度、宽色域等优势，备受人们关注，在AR、VR领域备受青睐。

然而，其全彩化显示存在较大挑战。目前主流的RGB三色Micro LED全彩技术，不仅存在巨量转移次数多、成本高昂、驱动控制电路复杂、不同颜色光衰不同等问题，并且由于Micro LED尺寸减小，红色LED的发光效率急剧下降。

因此，使用单色蓝光Micro LED激发绿色和红色荧光材料实现全彩化显示可以规避前述问题，极具发展潜力。

2023年获得诺贝尔奖的材料——胶体量子点，因具有发光半峰宽窄、颜色可调、效率高、粒径小等优异的性能，是配合蓝光Micro LED的荧光材料的理想选择。

量子点色转换层需要像素化才能与蓝光Micro LED阵列配合，当前实现量子点像素化的方案主要有两种：喷墨打印和光刻。

相较而言，光刻精度更高、获得的量子点像素更小，更适合于高PPI的AR、VR应用。

然而，当前量子点光刻技术仍存在诸多挑战，包括发光效率低、像素精度不够高、蓝光转换效率低、稳定性差等问题。

针对上述问题，湖北光谷实验室、华中科技大学集成电路学院和光电子器件与三维集成团队的张建兵等人与广纳珈源（广州）科技有限公司合作，研发出高性能量子点光刻胶（QD-PR），其蓝光转换效率达到44.6%（绿色）和45.0%（红色），光刻精度达到1 um，各项性能指标为行业领先水平。