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NEJ-ES600型电流体喷雾制膜设备

NEJ-ES600型电流体喷雾制膜设备NEJ-ES600型电流体喷雾制膜设备,通过高压电场引导高速射流尖端突破瑞利极限,多次炸裂产生fL级雾滴,可沉积≥50nm厚均匀致密薄膜,是微电子、半导体、能源电

配置参数

NEJ-ES600型电流体喷雾制膜设备

NEJ-ES600型电流体喷雾制膜设备,通过高压电场引导高速射流尖端突破瑞利极限,多次炸裂产生fL级雾滴,可沉积≥50nm厚均匀致密薄膜,是微电子、半导体、能源电池、生物医药等专用设备之一。

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技术参数

  • ●适应材料粘度:≤500cps

  • ●最小制造薄膜膜厚:50nm

  • ●适用材料体系:光刻胶、钙钛矿、纳米材料、聚合物单体等有机/无机墨水

  • ●应用领域:光刻、显示、太阳能电池、燃料电池、薄膜封装、医药等

  • ●原创电流体喷雾工艺与自主专利技术

装备技术优势

  • 喷胶粘度≤500cps

  • 雾滴体积:fL级

  • 制膜厚度:~50nm

  • 薄膜质量:均匀致密

  • 制造效率:多喷头 大面积

  • 材料利用率≥60% 雾滴聚焦

  • 联系电话:17702718968



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